لیتوگرافی نوری چیست؟

طرح‌نگاری نوری یا لیتوگرافی نوری یا فوتولیتوگرافی (به انگلیسی: Photolithography) فرآیندی است که در ریزساخت استفاده شده و برای ساخت الگو در بخش‌هایی از یک فیلم نازک یا روی کل یک ویفر استفاده می‌شود.

در این فرایند پس از نشاندن یک لایه پلیمری حساس به نور (پلیمر واسط یا پلیمر مقاوم) روی سطح زیرلایه، پرتوی همگن از یک ماسک عبور کرده و طرحی روی پلیمر ایجاد می‌کند. در فرایند طرح‌نگاری نوری پس از ایجاد طرح روی پلیمر واسط، نواحی نور دیده، با مقاومت در برابر خوردگی، واسطه انتقال طرح به لایه زیرین می‌شوند؛ این فرایند بسیار شبیه به مُهرسازی با نور فرابنفش است؛ و در صنعت ساخت ادوات نیم‌رسانا نقش مهمی بازی می‌کند.

از زمان اختراع طرح‌نگاری نوری توسط نایپسه تا کنون منابع انرژی متفاوتی برای این کار استفاده شده، که منجر به ایجاد خانواده‌های مختلف طرح‌نگاری شده‌است: فوتون فرابنفش، پرتوی ایکس، الکترون. علت اصلی استفاده از طول موج‌های کوتاه، رسیدن به ظرافت بیشتر در ساخت ادوات نیم‌رسانا است.

در حال حاضر فرایند اصلی ساخت ادوات نیم‌رسانا بر پایهٔ طرح‌نگاری نوری فرابنفش است، که با طیف طول موج‌های بین ۳۰۰ تا ۴۵۰ نانومتر سر و کار دارد.